浅议集成电路布图设计侵权判断中的一些关键问题

#本文仅代表作者观点，不代表IPRdaily立场，未经作者许可，禁止转载#

“本文结合(2019)粤知民终1号判决书以及（2021）最高法民申3269号裁定书中的相关意见对布图设计侵权判断中的一些问题进行分析讨论。”

来源：IPRdaily中文网（iprdaily.cn）

作者：陈华成 中国贸促会专利商标事务所

PART01
引言

随着人工智能、物联网等技术的不断发展，集成电路应用领域不断扩展，集成电路产业蓬勃发展，对于集成电路的知识产权保护也日益重要。集成电路布图设计专有权是根据《集成电路布图设计保护条例》对具有独创性的集成电路布图设计进行保护的一种知识产权，它与专利权、商标权、著作权等一样，都是知识产权的重要分支。

《集成电路布图设计保护条例》第三十条规定：“除本条例另有规定的外，未经布图设计权利人许可，有下列行为之一的，行为人必须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任：(一)复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的；(二)为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的。”

判断是否侵犯布图设计专有权是布图设计专有权人能否行使权利的前提，在集成电路布图设计保护中尤为重要。然而在当前的集成电路布图设计保护实践中，对于如何判断是否侵犯布图设计专有权并没有明确的操作指南和规范，相关司法案例也非常少，在业界对于布图设计侵权判断存在着很多空白和有争议的地方。

(2019)粤知民终1号判决书以及（2021）最高法民申3269号裁定书涉及泉芯电子技术（深圳）有限公司、南京微盟电子有限公司和深圳市锦汇鑫科技有限公司之间侵害集成电路布图设计专有权的民事纠纷。在该案的审理过程中涉及到布图设计侵权判断中的很多争议问题，这对于集成电路布图设计领域的实践有很大的指导意义。本文结合(2019)粤知民终1号判决书以及（2021）最高法民申3269号裁定书中的相关意见对布图设计侵权判断中的一些问题进行分析讨论。

PART02
相关案情介绍

泉芯电子技术（深圳）有限公司发现南京微盟电子有限公司制造、销售型号为ME2180A28PG的芯片（以下简称被诉侵权芯片），并且深圳市锦汇鑫科技有限公司也销售该芯片。泉芯公司认为上述芯片的制造和销售侵犯了该公司在国家知识产权局备案的名称为QX2304、登记号为BS.09500630.3的集成电路布图设计的专有权（泉芯公司在国家知识产权局备案的BS.09500630.3号芯片的型号有两种，分别为QX2304L28E、QX2304L33E）。于是泉芯公司向法院提起相关侵权诉讼。

1、一审相关情况

在一审过程中，微盟公司与锦汇鑫公司均不承认上述被控侵权芯片的布图设计与泉芯公司登记的布图设计相同。同时，微盟公司还抗辩称，其亦在国家知识产权局进行了布图设计登记，被控侵权的布图设计使用的是其享有专有权的布图设计。

泉芯公司、微盟公司向法院提出司法鉴定申请，并共同选定北京芯愿景软件技术有限公司进行该鉴定。鉴定结果为：

（1）被诉侵权产品和芯片C28B(泉芯公司备案的芯片之一)版图相似度为62.72%。

（2）被诉侵权产品和芯片C33B(泉芯公司备案的芯片之二)版图相似度为68.51%。

（3）芯片C28B(泉芯公司备案的芯片之一)和芯片1114-3Q(微盟公司备案的芯片)版图相似度为68.01%。

（4）芯片C33B(泉芯公司备案的芯片之二)和芯片1114-3Q(微盟公司备案的芯片)版图相似度为63.02%。

（5）被诉侵权产品和芯片1114-3Q(微盟公司备案的芯片)版图相似度为91.94%。

在案件审理的过程中，泉芯公司申请进一步的补充鉴定：（1）泉芯公司所称其创新部分的布图设计是否与其在本案中主张享有专有权的布图设计相对应部分相同？（2）泉芯公司所称其创新部分的布图设计与微盟公司被诉侵权产品的相应布图设计是否相同或实质性相似？（3）如上述第1项存在相同或实质性相似，则泉芯公司对该相同或实质性相似部分的布图设计是否具有独创性？为此，泉芯公司为司法鉴定的需要提交了《泉芯QX2304独创性说明及其与微盟ME2108的版图对比》，内容涉及泉芯公司固定其所称的创新部分的布图设计以及独创性说明。

北京紫图知识产权司法鉴定中心对此做出鉴定意见，主要包括：

(1)a．泉芯公司所称其创新部分的布图设计中A、B、C、D、E、I、M区域与其在本案中主张享有专有权的布图设计(“芯愿景”提供的国家知识产权局备案的芯片QX2304的剖片图像)相对应部分相同；(1)b.泉芯公司所称其创新部分的布图设计中A、B、C、D、E、G、H、I、M区域与其在本案中主张享有专有权的布图设计(“芯愿景”提供的泉芯公司在国家知识产权局备案的QX2304电子版布图)相对应部分相同。(2)泉芯公司所称其创新部分的布图设计A、B、C、D、E、H、I、M区域与微盟公司被诉侵权产品的相应区域的布图设计实质性相似，G区域无法判断。(3)a.泉芯公司所称其创新部分的布图设计中A、B、C、D、E、G、H、I、M区域(根据“芯愿景”提供的泉芯公司在国家知识产权局备案的QX2304电子版布图)，不是公认的常规设计，具有独创性；(3)b.泉芯公司所称其创新部分的布图设计中A、B、C、D、E、I、M区域(根据“芯愿景”提供的国家知识产权局备案的芯片QX2304的剖片图像)，不是公认的常规设计，具有独创性。

锦汇鑫公司、微盟公司对此提出书面异议。紫图鉴定中心基于微盟公司提交的书面异议及《模拟电路版图的艺术》一书，将有关B区域独创性的鉴定意见更正为没有独创性。

一审法院以拍照方式从国家知识产权局复制了泉芯公司备案的布图设计纸质图样。泉芯公司申请对其所称创新部分的布图设计与其在国家知识产权局备案的布图设计图样相对应部分是否相同进行司法鉴定。紫图鉴定中心做出了《补充鉴定意见书》，指出：

“独创性说明”强调的独创部分在“备案布图照片”上显示不清。因此需要借助电子版布图进行比较。鉴定人员将“备案布图照片”与“电子版布图”进行比对。“备案布图照片”14张图，有两张与“电子版布图”中TOP层相同的照片，“备案布图照片”的颜色相对与“电子版布图”整体有细微差异，“备案布图照片”与“电子版布图”对应区域一一相同，基于“独创性说明”与“电子版布图”中对应的区域相同。

最终紫图鉴定中心认为“独创性说明”中的A、B、C、D、E、G、H、I、M区域与“备案布图照片”对应部分相同。

根据上述鉴定意见，一审法院最终认定：泉芯公司备案的复制件或图样载体所反映的布图设计含有泉芯公司选择的A、B、C、D、G、H、M、E、I布图设计区域。上述A、C、D、G、H、M、E、I布图设计区域具有独创性，受布图设计专有权保护，依法予以保护；而B布图设计区域不具有独创性，不受布图设计专有权保护。

此外，根据紫图鉴定中心的鉴定意见，一审法院还认定泉芯公司在本案中要求保护的具有独创性的A、C、D、E、H、I、M区域与涉案被诉侵权产品的相应区域的布图设计实质性相似，G区域无法判断。基于此，一审法院依法认定，微盟公司和锦汇鑫公司侵犯了泉芯公司对上述A、C、D、E、H、I、M布图设计区域所享有的专有权。

2、二审相关情况

微盟公司不服一审判决，提出上诉。在上诉状中特别指出：

（1）泉芯公司备案登记的布图设计图样纸件和电子版与备案的芯片样品不一致，不符合登记要求，不能获得布图设计专有权保护。此外即便可以获得专有权保护,在登记的样品与图样不一致时，应当以图样的纸件为准确定专有权范围，而本案中，由于该备案登记的图样纸件模糊不清，无法完成任何比对，因此本案中无法确定泉芯公司请求保护的9个区域是否是该纸件图样上的9个区域，即泉芯公司不能证明其对在本案中请求保护的9个区域享有专有权。

（2）在做侵权比对鉴定中,泉芯公司在提交其请求保护的9个区域的设计图样时，分别只提交该9个区域的三层设计图样，并没有提交完整的12层设计，鉴定机构也仅就该9个区域与被诉设计对应区域的3层设计进行侵权比对，并没有对其他关键层信息进行比对，比对对象不完整，无法得出该9个区域是否相同的结论。

二审庭审中，微盟公司与泉芯公司均确认紫图鉴定中心在上述修改意见中误将A区域写成B区域。因此鉴定结论应该是A区域没有独创性，其他区域具有独创性。

二审法院认为布图设计专有权范围应当以布图设计的复制件或者图样为主，必要时样品可以作为辅助参考。当图样不清晰的情况下，可以通过对样品进行反向工程提取布图设计以确定设计细节。当布图设计复制件或者图样与集成电路样品不一致时，对复制件或者图样所载的布图设计应赋予专有权保护。将泉芯公司请求保护的9个区域与其提交备案登记的图样电子版以及样品中与图样一致的区域进行比对，一审法院根据鉴定报告确认该9个区域与图样中的对应区域相同，与样品中对应的7个区域(除去与图样不一致的G、H两个区域)相同，并据此认定泉芯公司请求保护的9个区域已经备案登记并无不当。

泉芯公司在进行侵权鉴定时提交了其请求保护的9个区域的独创性说明，该说明中附上了涉案9个区域中其认为具有独创性的几个主要分层中的设计图样，其余几个分层中的设计均以文字形式说明该几层中的设计主要是通孔或者起链接作用的常规设计。泉芯公司已经明确说明其提交的9个区域中具有独创性的部分主要分布在其提交的几个主要分层中，一审法院仅将上述分层中的设计确定为保护对象，鉴定机构仅对上述分层中的设计与被诉产品中的对应设计进行比对，并无不当。

二审法院进一步认为：泉芯公司仅对其主张保护的B、C、D、E、G、H、I、M八个区域享有专有权，由于被诉产品中B区域的设计与泉芯公司主张保护的B区域的布图设计不同，G区域因无法判断不能确定二者是否相同，其余部分的设计均相同，因此微盟公司仅侵害了泉芯公司布图设计中C、D、E、H、I、M六个区域的专有权。

3、再审相关情况

微盟公司不服，向最高人民法院申请再审。再审过程中，微盟公司特别指出，在进行侵权比对时，泉芯公司仅提交了其主张保护的9个区域的其中三层设计，并未提交全部设计，无法进行侵权比对。

最高人民法院认为：在确定布图设计中特定部分是否具有相对独立的电子功能以及该部分是否具有独创性时，除了考虑互连线路的三维配置外，还应重点考虑相关部分中各电子元件的组合及其在三维空间的配置。根据原审法院查明的事实，泉芯公司提交的9个区域的独创性说明中分别说明了涉案9个区域中其认为对确定各区域独创性较为重要的（用于放置该区域主要电子元件及主要互连线路的）几个主要分层，并相应提交了各主要分层的设计图样，其余几个分层中的设计均以文字形式说明该几层中的设计主要是层间通孔、P形或N形半导体电连接、相关区域的电源接口或对外接口等起线路连接作用的常规设计。鉴于此，鉴定机构仅将几个主要分层的设计与被诉产品中的对应设计进行比对，并无不当。最终，最高人民法院裁定驳回微盟公司的再审申请。

PART03
关于集成电路布图设计侵权判断中一些争议问题的讨论

如前所述，迄今为止，对于如何判断布图设计侵权并没有明确的操作指南和规范，相关的司法案例也不多见。(2019)粤知民终1号判决书以及（2021）最高法民申3269号裁定书中的相关意见为集成电路布图设计侵权判断实践提供了很好的指引。

1、在图样纸件不清楚时如何确定布图设计的保护范围？

在本案的二审过程中，微盟公司指出，由于泉芯公司备案登记的图样纸件模糊不清，无法完成任何比对，因此本案中无法确定泉芯公司请求保护的9个区域是否是该纸件图样上的9个区域，即泉芯公司不能证明其对在本案中请求保护的9个区域享有专有权。此外，微盟公司还指出由于纸件不清晰，所以也无法完成侵权比对。

对此，二审法院认为布图设计复制件或者图样在确定受保护布图设计内容和专有权范围方面有着不可或缺和不可替代的作用，应当将其作为确定布图设计专有权范围的主要依据，而当图样不清晰的情况下，可以通过对样品进行反向工程提取布图设计以确定设计细节。二审法院最终认定“微盟公司关于只能以纸件图样确定布图设计内容和权利范围，而纸件不清晰无法完成任何比对的上诉理由”不能成立。在该案的再审过程中，最高人民法院也没有对二审法院的上述观点提出反对意见。

从中我们可以看出，在当前集成电路布图设计侵权审判实践中，在确定布图设计的保护范围时，一般以布图设计复制件或图样的纸件为基础。在样品与复制件或图样的纸件具有一致性的前提下，可以采用样品剖片，通过技术手段精确还原芯片样品包含的布图设计的详细信息，提取其中的三维配置信息，确定纸件中无法识别的布图设计细节，从而进一步确定布图设计的内容。这在一定程度上对于布图设计专有权人是有利的。由于布图设计打印在A4纸张上经常会引起的某些设计细节的缺失，布图设计专有权人不必担心因为这种缺失会产生权利的损失。

2、在布图设计图样与样品不一致时，该布图设计专有权是否仍然有效？以及在此情况下如何确定布图设计的保护范围？

在本案中，将泉芯公司请求保护的9个区域与其提交备案登记的图样电子版以及样品中与图样一致的区域进行比对，发现该9个区域与图样中的对应区域相同，而仅有7个区域与样品中的对应区域相同，即图样中有两个区域与样品对应区域不同。因此微盟公司对该布图设计专有权是否有效，以及其保护范围如何确定提出质疑。

对此，二审法院认为泉芯公司备案登记的布图设计载体有图样纸件、图样电子版以及芯片样品三种。其中图样纸件与图样电子版中的布图设计一致，但与芯片样品的布图设计存在两个区域不同，其余部分相同。二审法院认为备案登记的图样与样品不一致并应导致权利人失去专有权保护，微盟公司以图样与样品不一致为由主张泉芯公司没有权利基础的上诉理由不能成立。当图样与样品不一致时，图样中呈现的布图设计仍受专有权保护。二审法院认为确定布图设计专有权范围的主要载体是布图设计复制件或者图样，并未规定图样的具体表现形式必须是纸件而不能是电子版；其次，微盟公司关于“以纸件图样确定专有权范围”的主张建立在布图设计是“以公开换保护”的制度设置基础上，缺少法律依据，不能成立。在本案的再审过程中，最高人民法院对二审法院的观点也未提出反对意见。

我们注意到《集成电路布图设计保护条例实施细则》第二十九条规定的应予撤销登记的情况，其中并不涉及“提交的样品与图样不一致”的情况。可见登记样品与图样不一致属于一般的登记瑕疵，虽有不妥之处，但行政授权机关不会因此撤销相关已经完成的登记。

因此，在实践中出现布图设计图样与样品不一致的情况时，并不会导致权利人的相关权利丧失，布图设计专有权范围可以通过布图设计的图样纸件或与该图样纸件一致的电子版来确定。在实践中，在上市前样品往往在初始设计完成后还会经过多次修改，样品与所提交的布图设计图样很有可能略有不同。在布图设计图样与样品不一致的情况下仍能保证布图设计专有权人的相应权利对于布图设计专有权人是非常有利和友好的。

3、是否可以选择部分图层作为布图设计的权利基础？

微盟公司在再审程序中主张，泉芯公司仅提交了其主张保护的9个区域的其中三层设计，并未提交全部设计，因此无法进行侵权比对。对此，最高人民法院认为对布图设计权利人而言，只要其主张专有权的内容在其受保护的布图设计权利边界内，则其既可以选择全部具有独创性的部分作为专有权的权利基础，亦可以选择其中部分具有独创性的部分作为权利基础。该“部分”不应仅是个别元件或者个别连接，而是应当具有某种相对独立的电子功能。泉芯公司提交的独创性说明中说明了涉案9个区域中其认为对确定各区域独创性较为重要的几个主要分层，并相应提交了各主要分层的设计图样，其余几个分层中的设计均为起线路连接作用的常规设计，并基于此驳回了微盟公司的再审请求。

可以看到，对于一个集成电路，可以针对相关独创部分提交主要图层的图样，确保该部分实现独立的电子功能，而无需提交集成电路的全部图层的图样。在侵权比对过程中会基于所提交的希望获得保护的主要图层的图样进行侵权比对。这对于布图设计专有权人也是非常有利的。

《集成电路布图设计保护条例实施细则》第39条规定：“布图设计登记公告后，公众可以请求查阅该布图设计登记簿或者请求国家知识产权局提供该登记簿的副本。公众也可以请求查阅该布图设计的复制件或者图样的纸件”。在实践中，布图设计申请人往往会担心其布图设计公告后，公众可以查阅该布图设计的纸件，导致其布图设计泄密或被抄袭。根据本案例，我们可以在实践中考虑在保证功能实现的前提下适当少交一些图层的图样，以降低相关技术秘密泄露的风险。

PART04
结论

根据(2019)粤知民终1号判决书以及（2021）最高法民申3269号裁定书中的相关意见，在集成电路布图设计侵权案件中，在确定布图设计的保护范围时，一般根据复制件或图样的纸件进行。在样品与复制件或图样的纸件具有一致性的前提下，可以采用样品剖片，精确确定纸件中无法识别的布图设计细节。在布图设计图样与样品不一致时，布图设计专有权并不会丧失，权利范围可以通过布图设计的图样纸件或与该图样纸件一致的电子版来确定。此外，可以在确保独创部分实现独立的电子功能的前提下仅提交部分主要图层的图样，而无需提交布图设计的全部图层图样。在侵权比对过程中会基于所提交的希望获得保护的主要图层的图样进行侵权比对。

参考文献：

1、 集成电路布图设计保护条例。

2、 集成电路布图设计保护条例实施细则。

3、(2019)粤知民终1号判决书。

4、（2021）最高法民申3269号裁定书。

（原标题：浅议集成电路布图设计侵权判断中的一些关键问题）

来源：IPRdaily中文网（iprdaily.cn）

作者：陈华成 中国贸促会专利商标事务所

编辑：IPRdaily辛夷          校对：IPRdaily纵横君

注：原文链接：浅议集成电路布图设计侵权判断中的一些关键问题（点击标题查看原文）

「关于IPRdaily」

IPRdaily是全球领先的知识产权综合信息服务提供商，致力于连接全球知识产权与科技创新人才。汇聚了来自于中国、美国、欧洲、俄罗斯、以色列、澳大利亚、新加坡、日本、韩国等15个国家和地区的高科技公司及成长型科技企业的管理者及科技研发或知识产权负责人，还有来自政府、律师及代理事务所、研发或服务机构的全球近100万用户（国内70余万+海外近30万），2019年全年全网页面浏览量已经突破过亿次传播。

（英文官网：iprdaily.com  中文官网：iprdaily.cn） 

本文来自IPRdaily中文网（iprdaily.cn）并经IPRdaily.cn中文网编辑。转载此文章须经权利人同意，并附上出处与作者信息。文章不代表IPRdaily.cn立场，如若转载，请注明出处：“http://www.iprdaily.cn