美商务部工业和安全局拟将26家中方实体移出UVL

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“据美国商务部工业与安全局官方网站，将26家中国实体移出UVL（未经核实清单）清单。”

图源：USBIS

美国当地时间12月15日，据联邦公报官网讯，美国《联邦公报》计划于当地时间16日发布一份由美国商务部工业和安全局（The Bureau of Industry and Security，BIS）拟定的UVL清单（Unverified list，未经核实清单）。清单中包含的26家中国实体或将从UVL中移除。

IPRdaily将持续关注美国BIS即将正式发布的UVL。

拟定的26家中方实体包括：

1. Beijing Naura Magnetoelectric Technology Co., Ltd.;

2. CCIC Southern Electronic Product Testing Co., Ltd.;

3. Center for High Pressure Science and Technology Advanced Research; 

4. Changchun National Extreme Precision Optics Co., Ltd.;

5. Chinese Academy of Geological Sciences, Institute of Mineral Resources;

6. Chinese Academy of Science (CAS) Institute of Chemistry;

7. Dongguan Durun Optical Technology Co., Ltd.;

8. Foshan Huaguo Optical Co., Ltd.;

9. Guangdong University of Technology;

10. Guangxi Intai Technology Co., Ltd.;

11. Guangxi Yuchai Machinery Co., Ltd.;

12. Guangzhou Hymson Laser Technology Co., Ltd.;

13. Heshan Deren Electronic Technology Co., Ltd.;

14. Hubei Longchang Optical Co., Ltd.;

15. Hubei Sinophorus Electronic Materials Co., Ltd.;

16. Kunshan Heng Rui Cheng Industrial Technology;

17. Shanghai Fansheng Optoelectronic Science & Technology Co. Ltd.;

18. Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd.;

19. ShanghaiTech University;

20. Southern University of Science and Technology, Department of Mechanical and Energy Engineering;

21. University of Chinese Academy of Sciences, School of Chemical Sciences;

22. University of Shanghai for Science and Technology;

23. Vital Advanced Materials Co., Ltd.;

24. Wuhan Juhere Photonic Tech Co., Ltd.;

25. Wuxi Biologics (Shanghai) Co., Ltd.;

26. Zhongshan Thincloud Optics Co., Ltd.;

（原标题：美商务部工业和安全局拟将26家中方实体移出UVL）

点击“阅读原文”，下载拟修订的UVL原文

来源：IPtoday综合USBIS

编译：IP Today-何舒敏

编辑：IPRdaily赵甄          校对：IPRdaily纵横君

注：原文链接：美商务部工业和安全局拟将26家中方实体移出UVL（点击标题查看原文）

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